Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://dspace.opu.ua/jspui/handle/123456789/9638
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorSukharev, Yu.G.-
dc.contributor.authorAkulyushin, I.L.-
dc.contributor.authorZherevchuk, V.V.-
dc.contributor.authorSavel'ev, A.A.-
dc.contributor.authorAndriyanov, A.V.-
dc.contributor.authorMironov, V.S.-
dc.contributor.authorPolyarush, O.V.-
dc.date.accessioned2019-11-25T07:45:20Z-
dc.date.available2019-11-25T07:45:20Z-
dc.date.issued1997-12-
dc.identifier.citationElectrical and Optical Properties of HfO2-Nd2O3 Dielectric Films / Yu. G. Sukharev, I. L. Akulyushin, V. V. Zherevchuk, A. A. Savel`ev, A. A. Andriyanov, V. S. Mironov, O. V. Polyarush // Inorganic Materials. - 1997. - Vol. 33, N 12. - P. 1254-1257.en
dc.identifier.urihttp://dspace.opu.ua/jspui/handle/123456789/9638-
dc.description.abstractHfO2-Nd2O3 dielelectric films were produced by vacuum electron-beam evaporation, and their electrical properties where studies as a function of composition. C-V measurements were used to calculate parameters of the films and semiconductor-dielectric interfaces. The films exhibit high thermal stability in electric fields, The effect of stabilizing treatment on the optical properties of the films is examined. The films are believed to have great potential for use in thin-film electroluminescent devices and thermally stable capacitors.en
dc.language.isoenen
dc.publisherМАИК Наука/Interperiodica Publishingen
dc.subjectdielectric films, HfO2-Nd2O3, electrical, optical propertiesen
dc.titleElectrical and Optical Properties of HfO2-Nd2O3 Dielectric Filmsen
dc.typeArticle in Scopusen
opu.citation.journalInorganic Materialsen
opu.citation.volume33en
opu.citation.firstpage1254en
opu.citation.lastpage1257en
opu.citation.issue12en
opu.staff.idaav@opu.uaen
Располагается в коллекциях:Статті каф. ІДМК

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
UnorganicMaterial1997.pdfSukharev, Yu.G. Electrical and Optical Properties of HfO2-Nd2O3 Dielectric Films/Yu.G. Sukharev, I.L Akulyushin, V.V. Zherevchuk, A.A. Savel'ev, A.A. Andriyanov, V.S. Mironov, O.V. Polyarush//Inorganic Materials, 1997. - Vol.33, No,12. - pp.1254-1257486.05 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.