Ситемний підхід до процесу керування процесом нанесення іоно-плазмових покриттів

Хомутова, К. В.; Khomutova, K.

eONPUIR
→
1. Періодичні видання національного університету "Одеська політехніка"
→
Інформаційні технології в освіті, науці та виробництві
→
2013
→
Випуск №3(4)
→
Посмотреть элемент

dc.contributor.author	Хомутова, К. В.
dc.contributor.author	Khomutova, K.
dc.date.accessioned	2017-05-15T11:33:32Z
dc.date.available	2017-05-15T11:33:32Z
dc.date.issued	2013
dc.identifier.citation	Хомутова, К. В. Ситемний підхід до процесу керування процесом нанесення іоно-плазмових покриттів / К. В. Хомутова// Інформ. технології в освіті, науці та вир-ві = Information technologies in education, science and production : зб. наук. пр. – Одеса, 2013. – Вип. 3 (4). – С. 51–58. – Текст рос.	uk
dc.identifier.issn	2307-4752
dc.identifier.uri	http://sbornik.college.ks.ua/downloads/sbornik4/pdf/8.pdf
dc.identifier.uri	http://dspace.opu.ua/jspui/handle/123456789/2554
dc.description.abstract	Підвищення стійкості ріжучих інструментів є однією з нагальних проблем сучасної металообробки. У зв’язку з цим широкого застосування набули інструменти з покриттями, оскільки завдяки надтонкій плівці (товщина сягає декількох мікрометрів), не змінюючи об’ємних характеристик інструментального матеріалу в цілому, можна досягти підвищення стійкості інструмента у декілька разів.	en
dc.description.abstract	An increase of firmness of cuttings instruments is one of urgent problems of modern metalworkingness. In this connection wide application was purchased by instruments with coverages, as due to nadtonkiy tape (a thickness arrives at a few micrometres), not changing by volume descriptions of instrumental material on the whole, it is possible to attain the increase of firmness of instrument in once or twice.	en
dc.language.iso	uk	en
dc.publisher	Odessa National Polytechnic University	en
dc.title	Ситемний підхід до процесу керування процесом нанесення іоно-плазмових покриттів	en
dc.title.alternative	Approach of the systems is to the process of process control of causing of iono-plasma coverages	en
dc.type	Article	en
opu.citation.journal	Інформаційні технології в освіті, науці та виробництві	en
opu.citation.firstpage	51	en
opu.citation.lastpage	58	en
opu.citation.issue	3(4)	en