Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://dspace.opu.ua/jspui/handle/123456789/3981
Название: Полумарковские модели процесса формирования покрытий на деталях машин
Другие названия: Semi-markov models of coverings formation process on machines details
Авторы: Тонконогий, В. М.
Прокопович, И. В.
Березовский, А. А.
Дата публикации: 2011
Издательство: Харків: НТУ «ХПІ»
Библиографическое описание: Тонконогий, В. М. Полумарковские модели процесса формирования покрытий на деталях машин / В. М. Тонконогий, И. В. Прокопович, А. А. Березовский // Високі технології в машинобудуванні : зб. наук. пр. – Харків: НТУ «ХПІ», 2011. – Вип. 1 (21). – С. 248–252.
Краткий осмотр (реферат): It is shown that the modern automated designing of coverings drawing technology is impossible without adequate structural model of process. The semi-markov model of drawing based on a hypothesis about likelihood character of space at a surface of a substrate filling and connecting parameters of a covering formation process with its properties is offered
Показано, що сучасне автоматизоване проектування технології нанесення покриттів неможливе без адекватної структурної моделі процесу. Запропонована напівмарковська модель нанесення, заснована на гіпотезі про ймовірнісний характер заповнення простору біля поверхні підкладний, яка поєднує параметри процесу формування покриття з його властивостями
Показано, что современное автоматизированное проектирование технологии нанесения покрытий невозможно без адекватной структурной модели процесса. Предложена полумарковская модель нанесения, основанная на гипотезе о вероятностном характере заполнения пространства у поверхности подложки и связывающая параметры процесса формирования покрытия с его свойствами
URI (Унифицированный идентификатор ресурса): http://dspace.opu.ua/jspui/handle/123456789/3981
ISSN: 2078-7677
Располагается в коллекциях:Статті каф. ІТПМ
Статті каф. КСУ
Статті каф. ТУЛП



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.