Расчет частотной зависимости диэлектрических характеристик тонких пленок системы HfO2-Nd2O3

Казаков, Анатолий Иванович; Андриянов, Александр Викторович; Миронов, Валерий Семенович; Поляруш, Ольга Витальевна

eONPUIR
→
Інститут гуманітарних наук
→
Кафедра інформаційної діяльністі та медіа-комунікацій = Кафедра документознавства та інформаційної діяльності
→
Статті каф. ІДМК
→
Посмотреть элемент

dc.contributor.author	Казаков, Анатолий Иванович
dc.contributor.author	Андриянов, Александр Викторович
dc.contributor.author	Миронов, Валерий Семенович
dc.contributor.author	Поляруш, Ольга Витальевна
dc.date.accessioned	2019-11-08T07:39:31Z
dc.date.available	2019-11-08T07:39:31Z
dc.date.issued	2003-01
dc.identifier.citation	Расчет частотной зависимости диэлектрических характеристик тонких пленок системы HfO2-Nd2O3 / А. И. Казаков, А. В. Андриянов, В. С. Миронов, О. В. Поляруш // Технология и конструирование в электрон. аппаратуре. - 2003. - № 1. - С. 52-54.	ru
dc.identifier.uri	http://dspace.opu.ua/jspui/handle/123456789/9159
dc.description.abstract	Предложенная методика расчета диэлектрических параметров пленок системы HfO2-Nd2O3 позволяет с достаточной достоверностью прогнозировать их характеристики в широком частотном диапазоне. Использование описанной методики позволяет существенно сократить масштабы технологического эксперимента при оптимизации параметров диэлектрических пленок многокомпонентных систем в соответствии с практическими требованиями.	en
dc.language.iso	ru	en
dc.subject	диэлектрические пленки	en
dc.subject	частотные зависимости диэлектрических параметров	en
dc.title	Расчет частотной зависимости диэлектрических характеристик тонких пленок системы HfO2-Nd2O3	en
dc.type	Article	en
opu.kafedra	Кафедра інформаційної діяльністі та медіа-комунікацій = Кафедра документознавства та інформаційної діяльності	uk
opu.citation.journal	Технология и конструирование в электронной аппаратуре	en
opu.citation.firstpage	52	en
opu.citation.lastpage	54	en
opu.citation.issue	1	en
opu.staff.id	aav@opu.ua	en