Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://dspace.opu.ua/jspui/handle/123456789/1931
Название: Ионизационный отжиг полупроводниковых кристаллов. Часть вторая: эксперимент
Другие названия: Іонізаційний відпал напівпровідникових кристалів. Частина друга: експеримент
Ionization annealing of semiconductor crystals. Part two: the experiment
Авторы: Гаркавенко, А. С.
Мокрицкий, Вадим Анатольевич
Банзак, О. В.
Завадский, В. А.
Мокріцький, Вадим Анатолійович
Банзак, О. В.
Завадський, В. О.
Гаркавенко, О. С.
Mokrickiy, Vadim
Ключевые слова: лазер
отжиг
электронный пучок
лазер
відпал
електронний пучок
laser
annealing
electron beam
Дата публикации: Дек-2013
Издательство: Odessa National Polytechnic University
Библиографическое описание: Ионизационный отжиг полупроводниковых кристаллов. Часть вторая : эксперимент / А. С. Гаркавенко, В. А. Мокрицкий, О. В. Банзак, В. А. Завадский // Технология и конструирование в электрон. аппаратуре. - 2014. - № 5-6. - С. 51-56.
Краткий осмотр (реферат): При облучении полупроводниковых кристаллов мощными (сильноточными) импульсными электронными пучками высоких энергий обнаружен новый вид отжига, названный авторами ионизационным. В данной статье описаны экспериментальные исследования, подтверждающие сделанное ранее теоретическое обоснование.
При опроміненні напівпровідникових кристалів потужними (сильнострумовими) імпульсними електронними пучками високих енергій виявлено новий вид відпалу, названий авторами іонізаційним. У цій статті наведено результати експериментальних досліджень, які підтверджують зроблене раніше теоретичне обгрунтування.
There is a conception that irradiation of semiconductor crystals with high energy electrons (300 keV) results in a significant and irreversible deterioration of their electrical, optical and structural properties.
URI (Унифицированный идентификатор ресурса): http://tkea.com.ua/tkea/2014/5-6_2014/pdf/08.pdf
http://dspace.opu.ua/jspui/handle/123456789/1931
ISSN: 2225-5818
Располагается в коллекциях:Статті каф. ІТПЕТ
Технологія та конструювання в електронній апаратурі, № 5-6, 2014

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
08.pdf306.27 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.