Аннотация:
Понимание структуры, механизма формирования и свойств дефектов как в аморфном, так и в
кристаллическом SiO2 имеет важное значение в связи с широким применением этого материала в
микроэлектронике. Особенная роль отводится точечным дефектам, которые позволяют управлять
свойствами материалов и работой устройств, компонентной составляющей которых является SiO2.
